第767章 科学家们的呐喊：前沿不当人了是吧？(第7/9页)
论上可以做到7nm光刻，似乎没必要全面进军euV？”
“……”
在座众人都是懂行人士，纷纷表了各自的看法。
比如duV技术积累等等问题。
毕竟梼杌实验室名字里的‘半导体设备’五个字有85%是针对：
集成电路前道制造光刻机。
光刻机其实是个泛称，内里可细分为前道制造、后道封装、应用于TFT(薄膜晶体管)的光刻、应用于中小基底先进光刻等的光刻机。
一般大众认知范围内的光刻机是集成电路前道制造光刻机……
听着大家的不同意见，方年微微一笑：“duV不是有各位在努力吗？”
“前沿不能白叫前沿这个名字，而且euV这个领域基本上属于赢家通吃，很符合前沿的目标。”
王院士立马道：“可是asmL的euV实验机去年就运到了台积电使用。”
“……”
“这个领域需要很庞大的投入。”
“……”
方年当然知道。
他更清楚的是，全球范围内euV光刻机的差距其实不太大。
要么就是没想过，要么就是放弃了。
唯一一家至死不渝坚持到底的是asmL。
有意思的是，最终水准其实取决于砸钱程度以及对技术整合的程度。
当然，asmL快得很，o6年开始投入，去年推出了台euV工程原型机，而且还有台积电这个大客户在使用、验证、反馈。
但……
asmL很缺钱，方年曾看过的所有与asmL有关的媒体报道都提到了asmL在2o12年7月份起的客户联合投资计划。
这份计划募集了过5o亿欧元的资金，其中一半用于euV光刻研。
且因为始终未实现euV光刻机的大规模量产，以至于参与这份计划的三星、台积电、英特尔先后减持了股
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